ZS-酸铜处理剂(去蓝膜剂)德国技术,适用于染料型酸铜光亮剂溶液。由于不易发现酸铜镀层异常现象,却出现在亮镍镀层上的蓝雾现象,实际是酸铜故障,此时可选用酸铜处理剂(去蓝膜剂)对溶液进行处理,选用本产品对溶液进行处理,使用简便,无需停产并有立竿见影效果。
使用方法
1.添加量0.05-0.1g/L,用适量蒸馏水把粉剂溶解后加入酸铜溶液中,搅拌均匀即可;
2.当加入本剂后发现酸铜镀层光泽减低或不光亮时,说明镀液中光亮剂少了,可再适量补加、调平,直至镀层光亮。
3.使用本剂前,应先经小样试验后,再应用到大槽生产中去,否则,过量添加会使光亮剂失调。机理:染料类酸铜光亮剂中开缸剂(C剂)过多,无法用一般的药剂处理掉,ZS去蓝膜剂-才能使镀层光亮而不发生蓝雾现象。
附:染料型酸铜光亮剂的故障原因与解决方法(供参考)
酸铜生产中多用染料光亮剂的牌号有210;510;910及左右数号之光亮剂,整平剂A,光亮剂B,开缸剂C剂。
故障 | 原因 | 解决方法 |
光亮、整平差 | 光亮剂A、B、C配比不当 | 调平补充 |
槽温过高(大于35℃) | 降温 | |
氯离子低 | 加盐酸(盐酸浓度36%) | |
硫酸铜含量过低(低谟180g/L) | 补加硫酸铜调整 | |
硫酸过高(大于90g/L) | ||
出光慢、大电流区易烧焦、整平差 | 铜低酸高 | 调平 |
总浓度过低 | 调平 | |
氯根低 | 补加盐酸 | |
分散性差 | 光亮剂失调: A剂过多或过少,小电流处暗红,发黑无光;孔眼处及钩印无光,“带眼镜”; 大电流处烧焦; 易产生麻孔; 光亮剂过少,大电流不焦小电流不亮 | 加C和B调整; A剂多,同时B、C也多,以双氧水处理 |
B剂过量: 大电流不烧焦; 中、小电流不光亮 | 加A,或多加些A,少加点C | |
C剂过量:开大电流不易烧焦,加A剂调整失灵; 起亮性很慢 | 活性炭处理(双氧水无用) | |
挂具印重 | A剂过量 | 调平(B、C)或双氧水 |
槽温高 | 降温 | |
光剂总含量高 | 控制,调平 | |
出亮快(小电流区不易亮),B多椅C过多A少 | 加A调平 | |
针孔、麻点 | A剂过多 | 双氧水处理 |
A剂质量问题 | 紫色悬浮物多,过滤 | |
A、B、C配平差 | 调平 | |
氯根低 | 调加 | |
槽液要大处理 | 加温搅拌,双氧水、活性光、硫化钠处理 | |
硫酸含量少 | 调高 | |
液中硫酸铜减少得快,阳极钝化 | 阳极面积小 | 增加阳极 |
阳极电流过大 | 增加阳极 | |
原镀液中铜含量就低 | 补充硫酸铜 | |
氯根高(白灰状物附其阳极上) | 加锌粉处理 | |
常出现局部挂具不亮,甚至同一挂具上局部不亮 | 似乎双极性电镀 | 检查漏电否 |
阳极导电不良 | 清理导电 | |
橘皮、波纹(光亮尚可,分散良好) | C高,A剂也高,但未有麻点出现 | 调平 |
镀层大电流处易呈海绵状烧焦 | 液温过低而电流过大 | 用钦质加热器恒温控制加热至约10℃;适当减洗小电流 |
镀液过稀,硫酸铜过少 | 分析或试验补加 | |
阴阳极距离过近 | 改进设备,加宽镀槽 | |
工件装挂不合理,工件上远近阳极距离差过大 | 改进装挂 | |
搅拌不良 | 改进搅拌 | |
工件大电流密度区呈白色粗糙或暗铜状 | Cl-过少 | 试验补加化学纯氯化钠(40~50) mg/L |
相同电流下电压比正常值高出1伏以上 | 镀液中硫酸少,因而电导率低 | 补加分析纯硫酸使电压降至正常值(新配液应作纪录) |
整流器输出直流回路导电不良 | 检查各连接点,改进不良导电部位 | |
电流不断下降而电压不断上升(液中硫酸铜含量不断下降) | 阳极部分或全部钝化;铜阳极含磷量过高 | 换用含磷(0.03~0.06) %低磷优质阳极材料 |
阳极面积过小:阳极本身配置不足阳极消耗后未及时补加 | 增加阳极个数及时检查补充阳极(过窄小的或头子装入钛筐中继续用);若本身系杨筐加磷铜球、块,应及时补够 | |
硫酸铜过多,液温低时结晶而堵塞阳极袋孔(或泥渣堵孔) | 清洗阳极袋。若硫酸铜过多,应冲稀镀液,补加硫酸等林料 | |
硫酸过少,阳极溶解不良 | 试验或分析补加硫酸 | |
部分阳极导电不良(此时板上无或很少黑色磷膜) | 清洁导电部位,保证导电良好 | |
镀层粗糙 | 镀液太脏,机械杂质过多 | 必须对镀液循环过滤,过滤机表压高时及时清洗滤芯,安装良好 |
基体本身表面状况差,磨抛不良 | 加强镀前平整化处理 | |
预镀层粗糙 | 检查预镀层粗糙原因,加以排除 | |
镀铜前清洗水太脏 | 更换镀前清洗水 | |
复杂件深凹处或大平面件中间部位镀铜层发花,甚至起泡 | 预镀不良,局部在酸铜液中产生置换铜或基体被腐蚀:预镀层太薄 | 增大预镀电流,延长预镀时间 |
预镀液太脏,预镀层孔隙高 | 过滤预镀液 | |
预镀液分散能力、深镀力差 | 调整预镀液 | |
镀铜时工件未及时给电,预镀铜层局部溶解 | 镀铜时应先开足电压,迅速入槽通电 | |
工件装挂不良,导电不好 | 检查并纠正,保证导电良好 | |
整槽工件光亮整平性差 | 光亮剂过少 | 试验补加 |
镀液太稀 | 分析或试验调整镀液 | |
电流太小,时间过短 | 改进操作 | |
工件大电流密度区光亮整平性差 | 硫酸铜过少而硫酸相对过多 | 分析或试验补充 |
光亮剂少,特别是B剂少 | 霍尔槽试验补加 | |
复杂件深凹处或大平面件中间部位(低电流密度区)光亮性差 | 硫酸过少,而硫酸铜过多 | 分析或试验补加、调整 |
光亮剂过少,特别是A剂少 | 试验补加 | |
镀液中氪离子过多 | 除氯后试验 | |
直流电源波形不良:未采用低纹波直流电源直流电源内部损坏三相整流电源供电缺相 | 换用低纹波直流电源用示波器确认后,修理电源寻找原因,加以解决 | |
工件发花,光亮与不光亮明显分界 | 光亮剂过多:未坚持少加勤加光亮剂 光亮剂一次加入过多(未冲稀、未计量、凭感觉乱加造成) | 光亮剂必须坚持“勤加少加”原则按1m l/L量将30 %过氧化氢冲稀10倍以上,在不断搅拌下慢慢加入,再搅拌10余分钟,氧化破坏部分光亮剂 |
亮铜层上亮镍结合力差 | 镀酸铜后未作除膜处理 | 增加除膜工序 |
化学除膜不良:除膜液太稀,未及时加料除膜时间太短,工件未作摆动、上下提升等除膜液太脏,有机杂质多 | 及时对除膜液补加材料改进除膜操作更换除膜液 | |
亮铜液使用日久,有机杂质积累过多 | 大处理亮铜液:加入(5~8) ml/L过氧化氢,加热搅拌8小时以上(60℃),加分析纯活性炭(5~8) g/L,搅拌1小时,沉淀3小时,彻底过滤镀液,试验呈暗铜后,按新开缸加入开缸剂。若活性炭引入氯离子过多,再作除氯处理 | |
蓝雾 | 光剂或有机物多,B剂是否过量 | 处理:A和湿润剂容易被碳粉吸附,如果加入5g/l活性炭,经过强力搅拌,几乎100%被清理掉了。B和MU(MU中的一部分)很难被活性炭吸附,用很多的双氧水和活性炭,也只能打掉部分。 |
镀镍后有蓝雾 | 酸铜光剂过量,在铜层看不到蓝雾,却反映在亮镍层上 | 加入酸铜处理剂,镀镍后光亮不发蓝雾,适当补加光亮剂 |
阳极表面会出现一层黑膜或灰白色胶状膜 | 氯离子浓度 |
以上信息仅供参考